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AI为EDA插上智能之翼,加持国产芯片设计创新

5月24日,2025 AI-First 国产EDA芯片设计协同研讨会在南京成功举办。上海合见工业软件集团有限公司AI智能EDA平台产品总监成功在研讨会上做了《大模型辅助Verilog RTL设计技术与工程实践》的主题演讲,分享了AI赋能EDA方面的业界技术研究动态,并介绍了合见工软数字设计AI智能平台产品UniVista Design Assistant (UDA) 。

以DeepSeek为⾸的国产开源⼤模型的迅速崛起,为⼈⼯智能在集成电路领域的应⽤场景落地打下了坚实的基础。随着AI赋能EDA技术的深化,国产开源⼤模型有望通过与主流EDA⼯具链的深度集成,推动集成电路产业向智能化、⾃动化⽅向加速演进。 合见工软在大模型赋能设计开发和验证调试方面都做了深入的探索,特别是在大模型辅助Verilog RTL设计领域。

相较于较成熟的大模型赋能软件编程,大模型赋能Verilog RTL设计面临着开源数据稀缺与代码容错率低的双重挑战,合见工软采用 “大模型+EDA” 闭环系统突破行业瓶颈,在技术研究和产品研发方面都取得了长足的进步。大模型和EDA工具有各自擅长的领域。和传统AI不同,大模型作为一种生成式AI擅长内容生成,例如生成RTL代码以及testbench 等,但由于大模型本质上是一种基于统计归纳的概率模型,有可能由于“幻觉”等因素使生成的内容正确性不足。而EDA工具有着强大的设计分析和评估能力,可以检查设计中的语法错误,功能错误,并可对设计做PPA评估。把大模型和EDA有机结合起来,构成闭环系统,就能取长补短,充分发挥大模型的生成和探索能力,同时利用EDA工具链的反馈机制,指导大模型不断修正和优化设计,从而取得比单纯用大模型的开环系统更好的效果。

今年2月,合见工软推出数字设计AI智能平台——UniVista Design Assistant (UDA),是国内首款自主研发、专为Verilog设计打造的AI智能平台,融合DeepSeek R1等先进大模型与合见工软自研的EDA引擎,实现了全栈自主可控软硬件方案。UDA可提升代码QoR和正确性10-20%,支持AI辅助的设计空间探索和设计优化,内置了仿真和调试工具,有效提升测试效率并提供全面的功能验证服务。

 

设计师,大模型和EDA三者有效协同,将为芯片设计带来全新的模式,大幅提高设计质量和生产效率。随着有着更强自主能力的AI智能体技术成熟,芯片设计将向 “目标驱动型” 全流程自动化演进,合见工软国产EDA智能平台正在助力大模型落地芯片设计领域,重构产业生态。

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