由芯合半导体参与制定的《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFETs)阈值电压测试方法》等9项SiC MOSFET测试与可靠性标准正式发布。
在第十届国际第三代半导体论坛上,第三代半导体产业技术创新战略联盟发布的这一系列标准,旨在为SiC MOSFET功率器件提供一套科学、合理的测试与评估方法,支撑产品性能提升,推动产业高质量发展。
碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)具有阻断电压高、工作频率高、耐高温能力强、通态电阻低和开关损耗小等特点,广泛用于高频、高压功率系统中。随着电力电子技术的不断发展,越来越多的领域如电动汽车、光伏、储能、充电桩、航空航天迫切需要能够在高压、小散热体积、低损耗要求下工作的电子器件。
SiC MOSFET的阈值电压与测试方法有很大关系,此前测试缺少统一标准,对SiC MOSFET的评价和推广造成很大障碍。此次,芯合半导体参与制定的“SiC MOSFET阈值电压测试方法”为SiC MOSFET阈值电压的准确测试提供支撑,对SiC MOSFET的测试评价和推广具有重要意义。
关于芯合
芯合半导体是一家专注于碳化硅功率芯片IDM企业,业务包括芯片设计、晶圆制造、封装测试,产品包括Wafer、SBD器件、MOSFET器件以及全碳化硅模块。公司齐聚了一支技术和产业化经验丰富的核心团队,秉承“极致、和谐、坚持”的企业文化,深耕功率半导体,重点致力于开发碳化硅分立器件和功率模块及应用,为实现高功率密度电能转换系统的高效率、小型化和轻量化提供完整的半导体解决方案。