说明:当今业界在将第三方公共云与 Calibre® nmPlatform 等电子设计自动化 (EDA) 应用程序结合使用方面,表现出空前高涨的热情。我们现在处于一个关键路口,在计算需求、技术和增强的安全性的共同作用下,利用云来将您的下一个集成电路 (IC) 设计推向市场俨然已成为可行且必要之举。下面我们来探讨一下,云何以成为一个可行选项,以及如何使用云来扩展您在成熟工艺节点(例如 45nm 至 28nm)和前沿技术(例如 7nm 至 5nm)中的计算选项。
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