适用于 5 nm 及以下节点的多重曝光选项：SADP、SAQP、SALELE

说明：

鉴于传统的光刻-蚀刻多重曝光工艺存在对齐控制的问题，不论使用哪种光刻技术，自对齐多重曝光工艺都已成为最先进工艺的必要条件。通过详细的分步说明，帮助您了解 SADP、SAQP 和 SALELE 工艺。

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